Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD)

Titanium oksida (TiO2) merupakan semikonduktor yang mempunyai jurang jalur yang besar dengan ciri-ciri foto penukaran dalam spektra UV sesuai digunakan dalam pelbagai aplikasi. Dalam penyelidikan ini, kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD) digunakan bagi menghasilkan lapisan filem TiO...

Full description

Bibliographic Details
Main Authors:	Mohd Fairuz Soh-Yusoff, Mohamad Firdaus Mohamad Noh, Chin, Hoong Teh, Norasikin Ahmad Ludin, Mohd Adib Ibrahim, Mohd Asri Mat Teridi, Abd. Rashid Mohd Yusof
Format:	Article
Language:	English
Published:	Penerbit Universiti Kebangsaan Malaysia 2019
Online Access:	http://journalarticle.ukm.my/14302/ http://journalarticle.ukm.my/14302/ http://journalarticle.ukm.my/14302/1/10.pdf

id	ukm-14302
recordtype	eprints
spelling	ukm-143022020-02-26T07:55:07Z http://journalarticle.ukm.my/14302/ Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD) Mohd Fairuz Soh-Yusoff, Mohamad Firdaus Mohamad Noh, Chin, Hoong Teh Norasikin Ahmad Ludin, Mohd Adib Ibrahim, Mohd Asri Mat Teridi, Abd. Rashid Mohd Yusof, Titanium oksida (TiO2) merupakan semikonduktor yang mempunyai jurang jalur yang besar dengan ciri-ciri foto penukaran dalam spektra UV sesuai digunakan dalam pelbagai aplikasi. Dalam penyelidikan ini, kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD) digunakan bagi menghasilkan lapisan filem TiO2 dengan ketebalan yang berbeza berdasarkan tempoh pemendapan yang dikenakan (3, 5 dan 7 min). Lapisan filem dimendapkan pada suhu 450oC. Melalui kedah AACVD, lapisan TiO2 yang dimendapkan di atas kaca FTO (florin dop tin oksida) akan menjadi lebih nipis dan struktur lapisan menjadi lebih padat.Titanium diisopropoxide bis(acetylacetonate) dan etanol digunakan untuk menghasilkan pelopor AACVD. Ciri morfologi dan ketebalan filem nipis TiO2 diuji menggunakan mikroskopi daya atom (AFM) yang menunjukkan permukaan berliang pada filem nipis tersebut. Ciri optik filem nipis TiO2 diuji menggunakan spektra pancaran ultra-lembayung cahaya nampak (UV-Vis) dan keputusan menunjukkan filem nipis memberikan ketelusan yang tinggi pada kawasan kelihatan berdasarkan jurang jalur yang diperolehi. Prestasi filem nipis dicirikan menggunakan voltammetri sapuan linear (LSV) dan spektroskopi impedans elektrokimia (EIS). TiO2-5 min memperoleh purata ketebalan 61 nm melihatkan prestasi J-V terbaik iaitu 6.30 x 10-4 A/cm-2 dan memberikan rintangan cas yang terendah. Tambahan, pemendapan filem menunjukkan kelekatan yang baik pada substrat, kebolehkeluaran semula dan permukaan filem nipis yang sekata. Berdasarkan keputusan yang diperolehi, TiO2 yang disediakan menggunakan kaedah AACVD sangat sesuai digunakan dalam pelbagai aplikasi seperti sel suria generasi ketiga yang memerlukan filem nipis dengan ketebalan yang rendah, berliang, ketelusan yang tinggi, fotoaktif, dan stabil. Penerbit Universiti Kebangsaan Malaysia 2019-04 Article PeerReviewed application/pdf en http://journalarticle.ukm.my/14302/1/10.pdf Mohd Fairuz Soh-Yusoff, and Mohamad Firdaus Mohamad Noh, and Chin, Hoong Teh and Norasikin Ahmad Ludin, and Mohd Adib Ibrahim, and Mohd Asri Mat Teridi, and Abd. Rashid Mohd Yusof, (2019) Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD). Jurnal Kejuruteraan, 31 (1). pp. 85-92. ISSN 0128-0198 http://www.ukm.my/jkukm/volume-311-2019/
repository_type	Digital Repository
institution_category	Local University
institution	Universiti Kebangasaan Malaysia
building	UKM Institutional Repository
collection	Online Access
language	English
description	Titanium oksida (TiO2) merupakan semikonduktor yang mempunyai jurang jalur yang besar dengan ciri-ciri foto penukaran dalam spektra UV sesuai digunakan dalam pelbagai aplikasi. Dalam penyelidikan ini, kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD) digunakan bagi menghasilkan lapisan filem TiO2 dengan ketebalan yang berbeza berdasarkan tempoh pemendapan yang dikenakan (3, 5 dan 7 min). Lapisan filem dimendapkan pada suhu 450oC. Melalui kedah AACVD, lapisan TiO2 yang dimendapkan di atas kaca FTO (florin dop tin oksida) akan menjadi lebih nipis dan struktur lapisan menjadi lebih padat.Titanium diisopropoxide bis(acetylacetonate) dan etanol digunakan untuk menghasilkan pelopor AACVD. Ciri morfologi dan ketebalan filem nipis TiO2 diuji menggunakan mikroskopi daya atom (AFM) yang menunjukkan permukaan berliang pada filem nipis tersebut. Ciri optik filem nipis TiO2 diuji menggunakan spektra pancaran ultra-lembayung cahaya nampak (UV-Vis) dan keputusan menunjukkan filem nipis memberikan ketelusan yang tinggi pada kawasan kelihatan berdasarkan jurang jalur yang diperolehi. Prestasi filem nipis dicirikan menggunakan voltammetri sapuan linear (LSV) dan spektroskopi impedans elektrokimia (EIS). TiO2-5 min memperoleh purata ketebalan 61 nm melihatkan prestasi J-V terbaik iaitu 6.30 x 10-4 A/cm-2 dan memberikan rintangan cas yang terendah. Tambahan, pemendapan filem menunjukkan kelekatan yang baik pada substrat, kebolehkeluaran semula dan permukaan filem nipis yang sekata. Berdasarkan keputusan yang diperolehi, TiO2 yang disediakan menggunakan kaedah AACVD sangat sesuai digunakan dalam pelbagai aplikasi seperti sel suria generasi ketiga yang memerlukan filem nipis dengan ketebalan yang rendah, berliang, ketelusan yang tinggi, fotoaktif, dan stabil.
format	Article
author	Mohd Fairuz Soh-Yusoff, Mohamad Firdaus Mohamad Noh, Chin, Hoong Teh Norasikin Ahmad Ludin, Mohd Adib Ibrahim, Mohd Asri Mat Teridi, Abd. Rashid Mohd Yusof,
spellingShingle	Mohd Fairuz Soh-Yusoff, Mohamad Firdaus Mohamad Noh, Chin, Hoong Teh Norasikin Ahmad Ludin, Mohd Adib Ibrahim, Mohd Asri Mat Teridi, Abd. Rashid Mohd Yusof, Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD)
author_facet	Mohd Fairuz Soh-Yusoff, Mohamad Firdaus Mohamad Noh, Chin, Hoong Teh Norasikin Ahmad Ludin, Mohd Adib Ibrahim, Mohd Asri Mat Teridi, Abd. Rashid Mohd Yusof,
author_sort	Mohd Fairuz Soh-Yusoff,
title	Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD)
title_short	Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD)
title_full	Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD)
title_fullStr	Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD)
title_full_unstemmed	Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD)
title_sort	kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (tio2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (aacvd)
publisher	Penerbit Universiti Kebangsaan Malaysia
publishDate	2019
url	http://journalarticle.ukm.my/14302/ http://journalarticle.ukm.my/14302/ http://journalarticle.ukm.my/14302/1/10.pdf
first_indexed	2023-09-18T20:06:47Z
last_indexed	2023-09-18T20:06:47Z
_version_	1777407212001427456

Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD)

Similar Items